NanoX-8000 系統主要性能
? 菜單式系統設置，一鍵式操作，自動數據存儲
? 一鍵式系統校準
? 支持連接MES系統，數據可導入SPC
? 具備異常報警，急停等功能，報警信息可儲存
? MTBF ≥ 1500 hrs
? 產能 : 45s/點 （移動 + 聚焦 + 測量）（掃描范圍 50um）
? 具備 Global alignment & Unit alignment
? 自動聚焦范圍 ： ± 0.3mm
? XY運動速度 **快
表面三維微觀形貌測量的意義
在生產中，表面三維微觀形貌對工程零件的許多技術性能的評家具有**直接的影響，而且表面三維評定參數由于能更***，更真實的反應零件表面的特征及衡量表面的質量而越來越受到重視，因此表面三維微觀形貌的測量就越顯重要。通過兌三維形貌的測量可以比較***的評定表面質量的優劣，進而確認加工方法的好壞以及設計要求的合理性，這樣就可以反過來通過知道加工，優化加工工藝以及加工出高質量的表面，確保零件使用功能的實現。
表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富，通常可分為接觸時和非接觸時兩種，其中以非接觸式測量方法為主。
輪廓儀廣泛應用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加 工、表面工程技術、材料、太陽能電池技術等領域。晶片輪廓儀參數
輪廓儀是一種兩坐標測量儀器，儀器傳感器相對被測工件表而作勻速滑行，傳感器的觸針感受到被測表而的幾何變化，在X和Z方向分別采樣，并轉換成電信號，該電信號經放大和處理，再轉換成數字信號儲存在計算機系統的存儲器中，計算機對原始表而輪廓進行數字濾波，分離掉表而粗糙度成分后再進行計算，測量結果為計算出的符介某種曲線的實際值及其離基準點的坐標，或放大的實際輪廓曲線，測量結果通過顯示器輸出，也可由打印機輸出。（來自網絡）
輪廓儀在集成電路的應用：
封**ump測量
視場：72*96（um）物鏡：干涉50X 檢測位置：樣品局部
面減薄表面粗糙度分析
封裝：300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析 面粗糙度分析：2D, 3D顯示；線粗糙度分析：Ra, Ry，Rz，…
器件多層結構臺階高 MEMS 器件多層結構分析、工藝控制參數分析
激光隱形切割工藝控制 世界***的能夠實現激光槽寬度、深度自動識別和數據自動生成，**地縮
短了激光槽工藝在線檢測的時間，避免人工操作帶來的一致性，可靠性問題
集成電路輪廓儀自動化測量傳統光學顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細節.
輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應用：
晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程，其中由于光罩中電路結構尺寸極小，任何微小的黏附異物和下次均會導致制造的晶圓IC表面存在缺 陷，因此必須對光罩和晶圓的表面輪廓進行檢測，檢測相應的輪廓尺寸。
白光輪廓儀的典型應用：
對各種產品，不見和材料表面的平面度，粗糙度，波溫度，面型輪廓，表面缺 陷，磨損情況，腐蝕情況，孔隙間隙，臺階高度，完全變形情況，加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。
比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質，半導體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術在成本，復雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強度，使得橢偏儀對超薄和復雜的薄膜堆有較強的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應（絕大多數薄膜都是旋轉對稱）。因為不涉及任何移動設備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的優先，而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。物鏡是輪廓儀****的部件， 物鏡的選擇根據功能和檢測的精度提出需求。
輪廓儀的**團隊
夏勇博士，江蘇省雙創人才
15年ADE，KAL-Tencor半導體檢測設備公司研發、項目管理經驗
SuperSight Inc. CEO/共同創始人，太陽能在線檢測設備
唐壽鴻博士，國家千人****
25年 ADE，KAL-Tencor半導體檢測設備公司研發經驗
KLA-Tencor ***研發總監，***圖像處理、算法**
許衡博士，軟件系統研發
10 年硅谷世界500強研發經驗（BD Medical
Instrument）
光學測量、軟件系統
岱美儀器與**組為您提供輪廓儀的技術支持，為您排憂解難。 輪廓儀可用于：散熱材料表面粗糙度分析（粗糙度控制），生物、醫藥新技術，微流控器件。3D形貌輪廓儀售后服務
NanoX-8000的XY光柵分辨率 0.1um，定位精度 5um，重復精度 1um。晶片輪廓儀參數
輪廓儀的性能
測量模式
移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI）
樣 品 臺
150mm/200mm/300mm 樣品臺（可選配）
XY 平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，傾斜：±5°
可選手動/電動樣品臺
CCD 相機像素
標配：1280×960
視場范圍
560×750um（10×物鏡）
具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機
光學系統
同軸照明無限遠干涉成像系統
光 源
高 效 LED
Z 方向聚焦 80mm 手動聚焦（可選電動聚焦）
Z 方向掃描范圍 精密 PZT 掃描(可選擇高精密機械掃描，拓展達 10mm )
縱向分辨率 ＜0.1nm
RMS 重復性* 0.005nm，1σ
臺階測量** 準確度 ≤0.75％；重復性 ≤0.1%，1σ
橫向分辨率 ≥0.35um（100 倍物鏡）
檢測速度 ≤ 35um/sec , 與所選的 CCD 晶片輪廓儀參數
岱美儀器技術服務（上海）有限公司是一家磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】的公司，是一家集研發、設計、生產和銷售為一體的專業化公司。公司自創立以來，投身于磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，是儀器儀表的主力軍。岱美儀器技術服務始終以本分踏實的精神和必勝的信念，影響并帶動團隊取得成功。岱美儀器技術服務始終關注自身，在風云變化的時代，對自身的建設毫不懈怠，高度的專注與執著使岱美儀器技術服務在行業的從容而自信。