納米壓印光刻設備-處理結果：
新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像
資料來源：EVG與SwissLitho
AG合作（歐盟項目SNM）
2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片
資料來源：EVG
3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列
由加拿大國家研究委 員會提供
4.L / S光柵具有優化的殘留層，厚度約為10 nm
資料來源：EVG
5.紫外線成型鏡片300 μm
資料來源：EVG
6.光子晶體用于LED的光提取
多晶硅的蜂窩織構化（mc-Si）
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形結構50 μm
資料來源：EVG
8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝
資料來源：EVG
9.光子帶隙傳感器光柵
資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）
10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相
資料來源：EVG EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統。晶片納米壓印美元報價
納米壓印應用三：連續性UV納米壓印
EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
高精密儀器納米壓印質保期多久EVG提供不同的***積壓印系統，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。
HERCULES ® NIL特征：
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區域烙印覆蓋
批量生產**小40 nm或更小的結構
支持各種結構尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過程和模板
HERCULES ® NIL技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對準：≤±3微米
自動分離：支持的
前處理：提供所有預處理模塊
迷你環境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EVG ® 720特征：
體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度
專有SmartNIL ®技術，多使用聚合物印模技術
集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造
盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式
可選的頂部對準
可選的迷你環境
適用于所有市售壓印材料的開放平臺
從研發到生產的可擴展性
系統外殼，可實現比較好過程穩定性和可靠性技術數據
晶圓直徑（基板尺寸）
75至150毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對準：可選的頂部對準
自動分離：支持的
迷你環境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EVG的熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術，具有非常高的復制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。
為了優化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產的基石，不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質量的原版復制。
通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位。
*根據ISO 14644
HERCULES ® NIL特征：
批量生產**小40 nm *或更小的結構
聯合預處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®
體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度
全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源，固化時間**快
優化的模塊化平臺可實現高吞吐量
*分辨率取決于過程和模板 高 效，強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度，擁有高度均勻圖案層和**少殘留層，易于擴展的晶圓尺寸和產量。IQAligner納米壓印研發可以用嗎
EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。晶片納米壓印美元報價
UV納米壓印光刻
EV Group提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產品線，包括不同的***積壓印系統，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于擴展的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期，即納米壓印是一種用于大規模生產微米和納米級結構的高性能，低成本和具有批量生產能力的技術。
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