HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL
®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。
EVG的HERCULES ® NIL產品系列
HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL
® UV-NIL系統達200毫米
對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術
HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產品組合的***成員。HERCULES
NIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技術與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務”，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經過完全處理的納米結構晶圓退回。 EVG先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。青海納米壓印學校會用嗎
納米壓印應用三：連續性UV納米壓印
EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
CMOS納米壓印IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統。
納米壓印光刻（NIL）技術
EVG是納米壓印光刻（NIL）設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。NIL是產生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業應用。
其中EVG紫外光納米壓印系統型號包含：
EVG®610
EVG®620NT
EVG®6200NT
EVG®720
EVG®7200
EVG®7200LA
HERCULES®NIL
EVG®770
IQAligner®
熱壓納米壓抑系統型號包含：
EVG®510HE
EVG®520HE
詳細的參數，請聯系我們岱美有限公司。
EVG ® 770分步重復納米壓印光刻系統
分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作
EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從**
大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。 NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法。
SmartNIL技術簡介
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。中科院納米壓印學校會用嗎
EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。青海納米壓印學校會用嗎
具體說來就是，MOSFET能夠有效地產生電流流動，因為標準的半導體制造技術旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時會泄到別的不需要的地方，那樣就創造出了所謂的“短溝道效應”區域，并導致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學、德克薩斯大學、以及加州大學伯克利分校等），開發出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質的新技術。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形，從而帶來更加“物理可控”的生產過程。（來自網絡。青海納米壓印學校會用嗎
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