納米壓印光刻（NIL）技術(shù)

EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。

其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號(hào)包含：

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®

熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號(hào)包含：

EVG®510HE

EVG®520HE

詳細(xì)的參數(shù)，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美有限公司。

分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。天津納米壓印可以免稅嗎

EVG ® 720特征：

體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

專有SmartNIL ®技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù)

集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式

可選的頂部對(duì)準(zhǔn)

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái)

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性

系統(tǒng)外殼，可實(shí)現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

75至150毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對(duì)準(zhǔn)：可選的頂部對(duì)準(zhǔn)

自動(dòng)分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

奧地利納米壓印供應(yīng)商家EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。

EVG ® 520 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用

自動(dòng)化壓花工藝

EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印

氣動(dòng)壓花選項(xiàng)

軟件控制的流程執(zhí)行

EVG ® 520 HE技術(shù)數(shù)據(jù)

加熱器尺寸：150毫米，200毫米

比較大基板尺寸：150毫米，200毫米

**小基板尺寸：單芯片，100毫米

比較大接觸力：10、20、60、100 kN

比較高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C

粘合卡盤系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200

200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT

真空：

標(biāo)準(zhǔn)：0.1毫巴

可選：0.00001 mbar

    面板廠為補(bǔ)償較低的開口率，多運(yùn)用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù)，但此作法的缺點(diǎn)是用電量較高。若運(yùn)用NIL制程，可確保適當(dāng)?shù)拈_口率，降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時(shí)間長，經(jīng)過多次曝光后，在圖樣間會(huì)形成細(xì)微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程，是LCD領(lǐng)域中***一個(gè)創(chuàng)新任務(wù)。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時(shí)程，偏光膜企業(yè)的營收可能減少。（來自網(wǎng)絡(luò)。SmartNIL 非常適合對(duì)具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。

EVG ® 7200 LA特征：

專有SmartNIL ®技術(shù)，提供了****的印跡形大面積

經(jīng)過驗(yàn)證的技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本

強(qiáng)大且精確可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容

EVG ® 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米）

解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2）

對(duì)準(zhǔn)：可選的光學(xué)對(duì)準(zhǔn)：≤±15 μm

自動(dòng)分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。光學(xué)鏡頭納米壓印技術(shù)支持

HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速高功率曝光和平滑壓模分離。天津納米壓印可以免稅嗎

    在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心，雙方合作研發(fā)用于制造光學(xué)傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場的晶圓級(jí)光學(xué)元件。（奧地利）與WINDACH（德國），2019年11月27日――EV集團(tuán)(EVG)這一全球**的為微機(jī)電系統(tǒng)、納米技術(shù)與半導(dǎo)體市場提供晶圓鍵合與光刻設(shè)備的供應(yīng)商，***宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級(jí)光學(xué)元件(WLO)領(lǐng)域開展合作。這兩家公司均在光學(xué)傳感器制造領(lǐng)域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設(shè)備與DELO先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料，在工業(yè)，汽車，消費(fèi)類電子產(chǎn)品市場開發(fā)與應(yīng)用新型光學(xué)設(shè)備，例如生物特征身份認(rèn)證，面部識(shí)別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心（位于EVG總部，奧地利Florian）以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應(yīng)鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器，旨在通過合作來縮短創(chuàng)新設(shè)備與應(yīng)用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎(chǔ)設(shè)施包括**技術(shù)的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設(shè)備，例如分步重復(fù)母版，透鏡模制，以及EVG的SmartNIL?技術(shù)，晶圓鍵合與必要的測(cè)量設(shè)備。天津納米壓印可以免稅嗎

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)等，目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn)，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競爭力，努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識(shí)，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點(diǎn)競爭力。