EVG ® 770特征：
微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®
簡單實施不同種類的大師
可變抗蝕劑分配模式
分配，壓印和脫模過程中的實時圖像
用于壓印和脫模的原位力控制
可選的光學楔形誤差補償
可選的自動盒帶間處理
EVG ® 770技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2
對準：頂側顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm
較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米
有效印記區域：長達50 x 50毫米
自動分離：支持的
前處理：涂層：液滴分配（可選）
SmartNIL的主要技術是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。安徽晶圓片納米壓印
HERCULES ® NIL特征：
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區域烙印覆蓋
批量生產**小40 nm或更小的結構
支持各種結構尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過程和模板
HERCULES ® NIL技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對準：≤±3微米
自動分離：支持的
前處理：提供所有預處理模塊
迷你環境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
本地納米壓印保修期多久EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠輕松地適應各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。
SmartNIL技術簡介
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心，雙方合作研發用于制造光學傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場的晶圓級光學元件。（奧地利）與WINDACH（德國），2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球**的為微機電系統、納米技術與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設備的供應商，***宣布與高科技工業粘合劑制造商DELO在晶圓級光學元件(WLO)領域開展合作。這兩家公司均在光學傳感器制造領域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料，在工業，汽車，消費類電子產品市場開發與應用新型光學設備，例如生物特征身份認證，面部識別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心（位于EVG總部，奧地利Florian）以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創新孵化器，旨在通過合作來縮短創新設備與應用的研發與推廣周期。該中心的基礎設施包括**技術的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設備，例如分步重復母版，透鏡模制，以及EVG的SmartNIL?技術，晶圓鍵合與必要的測量設備。EVG620 NT支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。
EVG ® 6200 NT特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和轉換工具
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 6200 NT附加功能：
鍵對準
紅外對準
智能NIL ®
μ接觸印刷技術數據
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：75至200 mm
柔軟的UV-NIL：75至200毫米
SmartNIL ®：**多至150mm
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
對準：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米
自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持
NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法。CMOS納米壓印三維芯片應用
EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。安徽晶圓片納米壓印
HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統支持各種設備和應用程序的生產，包括用于增強/虛擬現實（AR / VR）頭戴式耳機的光學設備，3D傳感器，生物醫學設備，納米光子學和等離激元學。
HERCULES ® NIL特征：
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區域烙印覆蓋
批量生產**小40 nm或更小的結構
支持各種結構尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過程和模板
安徽晶圓片納米壓印
岱美儀器技術服務（上海）有限公司專注技術創新和產品研發，發展規模團隊不斷壯大。一批專業的技術團隊，是實現企業戰略目標的基礎，是企業持續發展的動力。公司以誠信為本，業務領域涵蓋磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，我們本著對客戶負責，對員工負責，更是對公司發展負責的態度，爭取做到讓每位客戶滿意。公司深耕磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，正積蓄著更大的能量，向更廣闊的空間、更寬泛的領域拓展。