中清航科注重為客戶提供持續(xù)的技術(shù)支持，即使流片完成后仍保留 1 年的技術(shù)服務(wù)期。客戶在芯片測(cè)試或應(yīng)用過程中遇到與流片相關(guān)的問題，技術(shù)團(tuán)隊(duì)會(huì)提供分析支持，如協(xié)助排查工藝導(dǎo)致的性能偏差、提供二次流片的優(yōu)化建議等。去年某 AI 芯片客戶量產(chǎn)時(shí)出現(xiàn)良率波動(dòng)，其技術(shù)團(tuán)隊(duì)通過回溯流片數(shù)據(jù)，3 天內(nèi)找到光刻參數(shù)偏差原因，幫助客戶恢復(fù)正常生產(chǎn)。在流片成本透明化方面，中清航科實(shí)行 “陽(yáng)光報(bào)價(jià)” 機(jī)制，所有費(fèi)用明細(xì)清晰可查，包含晶圓代工費(fèi)、掩膜版費(fèi)、測(cè)試費(fèi)等，無(wú)隱藏收費(fèi)項(xiàng)目。客戶可通過在線報(bào)價(jià)系統(tǒng)實(shí)時(shí)獲取不同工藝節(jié)點(diǎn)、不同晶圓廠的參考報(bào)價(jià)，系統(tǒng)會(huì)根據(jù)客戶需求自動(dòng)生成成本構(gòu)成分析。其定期發(fā)布的《流片成本白皮書》，還為行業(yè)提供客觀的價(jià)格趨勢(shì)參考。中清航科專業(yè)團(tuán)隊(duì)追責(zé)晶圓廠，年挽回?fù)p失超$300萬(wàn)。蘇州TSMC 180nm流片代理

對(duì)于需要進(jìn)行失效分析的流片項(xiàng)目，中清航科建立了專業(yè)的失效分析合作網(wǎng)絡(luò)。與國(guó)內(nèi)前列失效分析實(shí)驗(yàn)室合作，提供從芯片開封、切片分析到 SEM/EDX 檢測(cè)的全流程服務(wù)，能在 48 小時(shí)內(nèi)出具初步分析報(bào)告，72 小時(shí)內(nèi)提供完整的失效機(jī)理分析。其技術(shù)團(tuán)隊(duì)會(huì)結(jié)合流片工藝參數(shù)，幫助客戶區(qū)分設(shè)計(jì)缺陷與工藝問題，并提供針對(duì)性的改進(jìn)建議，去年為客戶解決了 60 余起復(fù)雜的流片失效問題，平均縮短問題解決周期 80%。中清航科關(guān)注新興市場(chǎng)的流片需求，針對(duì)東南亞、南亞等地區(qū)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，建立了本地化服務(wù)團(tuán)隊(duì)。這些團(tuán)隊(duì)熟悉當(dāng)?shù)氐漠a(chǎn)業(yè)政策、市場(chǎng)需求與供應(yīng)鏈特點(diǎn)，能為客戶提供符合當(dāng)?shù)貥?biāo)準(zhǔn)的流片方案，如針對(duì)印度市場(chǎng)的 BIS 認(rèn)證流片支持、東南亞汽車市場(chǎng)的本地化測(cè)試服務(wù)等。通過與當(dāng)?shù)鼐A廠、封測(cè)廠的合作，構(gòu)建區(qū)域化流片供應(yīng)鏈，將區(qū)域內(nèi)流片交付周期縮短至 10 天以內(nèi)，助力客戶開拓新興市場(chǎng)。XMC 40nmSOI流片代理廠家中清航科跨境流片代理，處理全部進(jìn)出口許可文件。

中清航科的流片代理服務(wù)實(shí)現(xiàn)了全渠道服務(wù)支持，客戶可通過電話、郵件、在線客服、移動(dòng)端 APP 等多種渠道獲取服務(wù)。其客戶服務(wù)團(tuán)隊(duì)實(shí)行 7×24 小時(shí)值班制度，確保客戶的問題能得到及時(shí)響應(yīng)，普通問題 1 小時(shí)內(nèi)給出解決方案，復(fù)雜問題 4 小時(shí)內(nèi)成立專項(xiàng)小組處理。通過客戶滿意度調(diào)查，不斷優(yōu)化服務(wù)流程與服務(wù)質(zhì)量，客戶滿意度持續(xù)保持在 95% 以上，重復(fù)合作率達(dá)到 80%。對(duì)于需要進(jìn)行低軌衛(wèi)星芯片流片的客戶，中清航科提供抗輻射流片代理服務(wù)。其與具備抗輻射工藝能力的晶圓廠合作，熟悉總劑量輻射、單粒子效應(yīng)等空間環(huán)境對(duì)芯片的影響，能為客戶提供抗輻射加固設(shè)計(jì)建議、工藝參數(shù)選擇等專業(yè)服務(wù)。在流片過程中，實(shí)施特殊的工藝控制，如增加氧化層厚度、采用特殊的摻雜工藝等，提高芯片的抗輻射能力。已成功代理多個(gè)低軌衛(wèi)星通信芯片的流片項(xiàng)目，產(chǎn)品通過了嚴(yán)格的輻射測(cè)試，滿足衛(wèi)星在軌運(yùn)行 10 年以上的要求。

全球晶圓產(chǎn)能緊張的背景下，其流片周期的穩(wěn)定性至關(guān)重要。中清航科建立了多晶圓廠備份機(jī)制，為每個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)匹配 2-3 家備選晶圓廠，當(dāng)主供廠商出現(xiàn)產(chǎn)能波動(dòng)時(shí)，可在 48 小時(shí)內(nèi)啟動(dòng)切換流程，確保流片計(jì)劃不受影響。去年某車規(guī)芯片客戶遭遇主晶圓廠火災(zāi)事故，中清航科只用 3 天就完成產(chǎn)能轉(zhuǎn)移，將交付延期控制在 1 周內(nèi)，較大限度降低客戶損失。流片后的測(cè)試與分析是驗(yàn)證設(shè)計(jì)有效性的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，中清航科配備了完整的芯片測(cè)試實(shí)驗(yàn)室，擁有 ATE 測(cè)試系統(tǒng)、探針臺(tái)等先進(jìn)設(shè)備，可提供 CP（晶圓級(jí)測(cè)試）與 FT（成品測(cè)試）服務(wù)。測(cè)試數(shù)據(jù)通過自主開發(fā)的分析平臺(tái)進(jìn)行失效模式分類，生成詳細(xì)的良率分析報(bào)告，幫助客戶精確定位設(shè)計(jì)缺陷。其與第三方失效分析實(shí)驗(yàn)室的合作網(wǎng)絡(luò)，還可提供切片分析、SEM 成像等深度分析服務(wù)。中清航科建立晶圓廠突發(fā)斷供72小時(shí)替代方案庫(kù)。

中清航科的流片代理服務(wù)注重技術(shù)創(chuàng)新，每年投入營(yíng)收的 15% 用于研發(fā)。其研發(fā)團(tuán)隊(duì)專注于流片工藝優(yōu)化、數(shù)字化服務(wù)平臺(tái)開發(fā)、新材料流片技術(shù)研究等領(lǐng)域，已申請(qǐng)發(fā)明專利 80 余項(xiàng)，其中 “一種基于人工智能的流片參數(shù)優(yōu)化方法” 獲得國(guó)家發(fā)明專利獎(jiǎng)。通過持續(xù)創(chuàng)新，不斷提升服務(wù)質(zhì)量與技術(shù)水平，例如較新研發(fā)的流片良率預(yù)測(cè)模型，預(yù)測(cè)準(zhǔn)確率達(dá)到 92%，能幫助客戶提前識(shí)別潛在的良率風(fēng)險(xiǎn)。對(duì)于需要進(jìn)行軍民融合流片的客戶，中清航科提供符合標(biāo)準(zhǔn)的流片代理服務(wù)。其建立了流片流程，嚴(yán)格遵守國(guó)家保密規(guī)定，與具備生產(chǎn)資質(zhì)的晶圓廠合作，確保流片過程符合 GJB9001C 質(zhì)量管理體系要求。在流片過程中，實(shí)施更嚴(yán)格的質(zhì)量控制與追溯管理，每道工序都有詳細(xì)的記錄與簽字確認(rèn)，滿足可追溯性要求。已成功代理多個(gè)芯片的流片項(xiàng)目，涵蓋雷達(dá)、通信、導(dǎo)航等領(lǐng)域，產(chǎn)品通過了嚴(yán)格的鑒定。選擇中清航科流片，贈(zèng)送晶圓探針測(cè)試500點(diǎn)。杭州中芯國(guó)際 40nm流片代理

中清航科提供3D堆疊流片方案，內(nèi)存帶寬提升8倍。蘇州TSMC 180nm流片代理

流片后的數(shù)據(jù)分析與反饋對(duì)產(chǎn)品優(yōu)化至關(guān)重要，中清航科為此開發(fā)了專業(yè)的流片數(shù)據(jù)分析平臺(tái)。該平臺(tái)可對(duì)接晶圓廠的測(cè)試數(shù)據(jù)系統(tǒng)，自動(dòng)導(dǎo)入 CP 測(cè)試、FT 測(cè)試的原始數(shù)據(jù)，通過數(shù)據(jù)挖掘算法進(jìn)行多維度分析，包括良率分布、參數(shù)分布、失效模式等，生成直觀的可視化報(bào)告。針對(duì)低良率項(xiàng)目，技術(shù)團(tuán)隊(duì)會(huì)進(jìn)行根因分析，區(qū)分設(shè)計(jì)問題與工藝問題，提供具體的優(yōu)化建議，如調(diào)整光刻參數(shù)、優(yōu)化版圖設(shè)計(jì)等。平臺(tái)還支持多批次數(shù)據(jù)對(duì)比，幫助客戶跟蹤良率變化趨勢(shì)，識(shí)別持續(xù)改進(jìn)點(diǎn)。某客戶的射頻芯片流片后良率只為 65%，中清航科通過數(shù)據(jù)分析發(fā)現(xiàn)是金屬層刻蝕不均導(dǎo)致，提出優(yōu)化刻蝕時(shí)間與功率的建議，二次流片良率提升至 89%。蘇州TSMC 180nm流片代理