半導體晶圓是一種薄而平的半導體材料圓片，組成通常為硅，主要用于制造集成電路（IC）和其他電子器件的基板。晶圓是構建單個電子組件和電路的基礎，各種材料和圖案層在晶圓上逐層堆疊形成。由于優異的電子特性，硅成為了常用的半導體晶圓材料。根據摻雜物的添加，硅可以作為良好的絕緣體或導體。此外，硅的儲量也十分豐富，上述這些特性都使其成為半導體行業的成本效益選擇。其他材料如鍺、氮化鎵（GaN）、砷化鎵（GaAs）和碳化硅（SiC）也具有一定的適用場景，但它們的市場份額遠小于硅。中清航科聯合高校成立切割技術研究院，突破納米級切割瓶頸。南通半導體晶圓切割寬度

中清航科ESG解決方案：設備內置能源管理模塊，智能調節激光功率與主軸轉速，單次切割能耗降低42%。碳追蹤平臺每8小時生成減排報告，助力客戶達成碳中和目標，已獲全球25家代工廠采購認證。功率器件背面金層在切割中易翹曲。中清航科開發脈沖電流輔助切割，在刀片-晶圓界面施加微電流（<10mA），瞬時加熱至150℃軟化金層，剝離風險下降90%，剪切強度保持>45MPa。中清航科推出粉塵組分診斷系統：通過LIBS（激光誘導擊穿光譜）在線分析顆粒元素構成，自動推薦冷卻液配方調整方案。幫助客戶減少因金屬污染導致的芯片失效，良率提升1.2%。南通半導體晶圓切割寬度中清航科切割液回收系統降低耗材成本35%，符合綠色制造。

晶圓切割的主要目標之一是從每片晶圓中獲得高產量的、功能完整且無損的芯片。產量是半導體制造中的一個關鍵性能指標，因為它直接影響電子器件生產的成本和效率。更高的產量意味著每個芯片的成本更造能力更大，制造商更能滿足不斷增長的電子器件需求。晶圓切割直接影響到包含這些分離芯片的電子器件的整體性能。切割過程的精度和準確性需要確保每個芯片按照設計規格分離，尺寸和對準的變化小。這種精度對于在終設備中實現比較好電氣性能、熱管理和機械穩定性至關重要。

晶圓切割過程中產生的應力可能導致芯片可靠性下降，中清航科通過有限元分析軟件模擬切割應力分布，優化激光掃描路徑與能量輸出模式，使切割后的晶圓殘余應力降低40%。經第三方檢測機構驗證，采用該工藝的芯片在溫度循環測試中表現優異，可靠性提升25%，特別適用于航天航空等應用領域。為幫助客戶快速掌握先進切割技術，中清航科建立了完善的培訓體系。其位于總部的實訓基地配備全套切割設備與教學系統，可為客戶提供理論培訓、實操演練與工藝調試指導，培訓內容涵蓋設備操作、日常維護、工藝優化等方面，確保客戶團隊能在短時間內實現設備的高效運轉。切割路徑智能優化系統中清航科研發，復雜芯片布局切割時間縮短35%。

中清航科創新性推出“激光預劃+機械精切”復合方案：先以激光在晶圓表面形成引導槽，再用超薄刀片完成切割。此工藝結合激光精度與刀切效率，解決化合物半導體（如GaAs、SiC）的脆性開裂問題，加工成本較純激光方案降低35%。大尺寸晶圓切割面臨翹曲變形、應力集中等痛點。中清航科全自動切割機配備多軸聯動補償系統，通過實時監測晶圓形變動態調整切割參數。搭配吸附托盤，將12英寸晶圓平整度誤差控制在±2μm內，支持3DNAND多層堆疊結構加工。晶圓切割后清洗設備中清航科專利設計，殘留顆粒＜5個/片。常州碳化硅陶瓷晶圓切割刀片

中清航科切割機遠程診斷系統，故障排除時間縮短70%。南通半導體晶圓切割寬度

中清航科飛秒激光雙光子聚合技術：在PDMS基板上直寫三維微流道（最小寬度15μm），切割精度達±0.25μm，替代傳統光刻工藝，開發成本降低80%。中清航科推出“切割即服務”（DaaS）：客戶按實際切割面積付費（$0.35/英寸），包含設備/耗材/維護全包。初始投入降低90%，產能彈性伸縮±50%，適配訂單波動。中清航科共聚焦激光測距系統實時監測切割深度（分辨率0.1μm），閉環控制切入量。將150μm晶圓切割深度誤差壓縮至±2μm，背面研磨時間減少40%。南通半導體晶圓切割寬度