晶圓切割作為半導體制造流程中的關鍵環節，直接影響芯片的良率與性能。中清航科憑借多年行業積淀，研發出高精度激光切割設備，可實現小切割道寬達20μm，滿足5G芯片、車規級半導體等領域的加工需求。其搭載的智能視覺定位系統，能實時校準晶圓位置偏差，將切割精度控制在±1μm以內，為客戶提升30%以上的生產效率。在半導體產業快速迭代的當下，晶圓材料呈現多元化趨勢，從傳統硅基到碳化硅、氮化鎵等寬禁帶半導體，切割工藝面臨更大挑戰。中清航科針對性開發多材料適配切割方案，通過可調諧激光波長與動態功率控制技術，完美解決硬脆材料切割時的崩邊問題，崩邊尺寸可控制在5μm以下，助力第三代半導體器件的規模化生產。晶圓切割大數據平臺中清航科開發，實時分析10萬+工藝參數。杭州sic晶圓切割劃片廠

在晶圓切割設備的自動化升級浪潮中，中清航科走在行業前列。其新推出的智能切割單元，可與前端光刻設備、后端封裝設備實現無縫對接，通過SECS/GEM協議完成數據交互，實現半導體生產全流程的自動化閉環。該單元還具備自我診斷功能，能提前預警潛在故障，將非計劃停機時間減少60%，為大規模生產提供堅實保障。對于小尺寸晶圓的切割，傳統設備往往面臨定位難、效率低的問題。中清航科專門設計了針對2-6英寸小晶圓的切割工作站，采用多工位旋轉工作臺，可同時處理8片小晶圓，切割效率較單工位設備提升4倍。配合特制的彈性吸盤，能有效避免小晶圓吸附時的損傷，特別適合MEMS傳感器、射頻芯片等小批量高精度產品的生產。杭州sic晶圓切割劃片廠中清航科切割機遠程診斷系統，故障排除時間縮短70%。

中清航科開放6條全自動切割產線，支持從8英寸化合物半導體到12英寸邏輯晶圓的來料加工。云端訂單系統實時追蹤進度，平均交貨周期48小時，良率承諾99.2%。先進封裝RDL層切割易引發銅箔撕裂。中清航科應用超快飛秒激光（脈寬400fs）配合氦氣保護，在銅-硅界面形成納米級熔融區，剝離強度提升5倍。中清航科搭建全球較早切割工藝共享平臺，收錄3000+材料參數組合。客戶輸入晶圓類型/厚度/目標良率，自動生成比較好參數包，工藝開發周期縮短90%。

中清航科飛秒激光雙光子聚合技術：在PDMS基板上直寫三維微流道（最小寬度15μm），切割精度達±0.25μm，替代傳統光刻工藝，開發成本降低80%。中清航科推出“切割即服務”（DaaS）：客戶按實際切割面積付費（$0.35/英寸），包含設備/耗材/維護全包。初始投入降低90%，產能彈性伸縮±50%，適配訂單波動。中清航科共聚焦激光測距系統實時監測切割深度（分辨率0.1μm），閉環控制切入量。將150μm晶圓切割深度誤差壓縮至±2μm，背面研磨時間減少40%。晶圓切割后分選設備中清航科集成方案，效率達6000片/小時。

中清航科注重與科研機構的合作創新，與國內多所高校共建半導體切割技術聯合實驗室。圍繞晶圓切割的前沿技術開展研究，如原子層切割、超高頻激光切割等，已申請發明專利50余項，其中“一種基于飛秒激光的晶圓超精細切割方法”獲得國家發明專利金獎，推動行業技術進步。晶圓切割設備的軟件系統是其智能化的中心，中清航科自主開發了切割控制軟件，具備友好的人機交互界面與強大的功能。支持多種格式的晶圓版圖文件導入，可自動生成切割路徑，同時提供離線編程功能，可在不影響設備運行的情況下完成新程序的編制與模擬，提高設備利用率。超窄街切割方案中清航科實現30μm道寬，芯片數量提升18%。湖州砷化鎵晶圓切割代工廠

晶圓切割全流程追溯系統中清航科開發，實現單芯片級質量管理。杭州sic晶圓切割劃片廠

半導體晶圓是一種薄而平的半導體材料圓片，組成通常為硅，主要用于制造集成電路（IC）和其他電子器件的基板。晶圓是構建單個電子組件和電路的基礎，各種材料和圖案層在晶圓上逐層堆疊形成。由于優異的電子特性，硅成為了常用的半導體晶圓材料。根據摻雜物的添加，硅可以作為良好的絕緣體或導體。此外，硅的儲量也十分豐富，上述這些特性都使其成為半導體行業的成本效益選擇。其他材料如鍺、氮化鎵（GaN）、砷化鎵（GaAs）和碳化硅（SiC）也具有一定的適用場景，但它們的市場份額遠小于硅。杭州sic晶圓切割劃片廠