IONPURE EDI配管簡(jiǎn)單，只需配進(jìn)水母管、產(chǎn)品水出管和濃縮水返回管，而其他品牌EDI需進(jìn)水母管、產(chǎn)品水出管、濃縮水返回管、循環(huán)水管和電極水管； IONPURE EDI無循環(huán)泵控制電盤，而其他品牌EDI需循環(huán)泵控制電盤； IONPURE EDI不需注入鹽水循環(huán)，因此不會(huì)在陽極產(chǎn)生氯氣，破壞膜塊內(nèi)膜片，而其他品牌EDI會(huì)在陽極產(chǎn)生氯氣，破壞膜片，影響人員健康； IONPURE EDI**膜塊電源控制，單一膜塊需維護(hù)或故障時(shí)不影響其它膜塊組運(yùn)轉(zhuǎn)，而其他品牌EDI所有膜塊共用一個(gè)電源控制，單一膜塊故障時(shí)需整個(gè)系統(tǒng)停止運(yùn)轉(zhuǎn)； IONPURE EDI有高溫**膜塊可供選用，而其他品牌EDI無高溫**膜塊設(shè)計(jì)。美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎新老客戶選購(gòu)。廠家直供美國(guó)IONPURE EDI模塊

(5) TOC(總有機(jī)碳)的影響。

  進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過高，會(huì)造成樹脂和選擇透過性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。

(6)進(jìn)水中CO2的影響。

  進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì)，容易穿透離子交換樹脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。

(7)總陰離子含量(TEA)的影響。

  高的TEA將會(huì)降EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提EDI模塊運(yùn)行電流，而過高的運(yùn)行電流會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增大，對(duì)極膜壽命不利。

  另外，進(jìn)水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對(duì)IONPUREEDI模塊系統(tǒng)運(yùn)行有影響 上海美國(guó)IONPURE EDI模塊供貨商美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保經(jīng)銷多年。

a.  淡水進(jìn)入淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

b.  被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個(gè)相反過程，這兩者會(huì)在模塊內(nèi)部形成一個(gè)動(dòng)態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進(jìn)入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進(jìn)入模塊，則從模塊底部出來；極水的進(jìn)水與淡水進(jìn)水同為一水流，只是分別進(jìn)入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

化學(xué)物質(zhì)使用 ● 系統(tǒng)不需注入 水循環(huán), 完全毋需使用化學(xué)物質(zhì) ● 在濃縮水層運(yùn)用**分層式樹脂排列技術(shù)來降低膜組電阻值 ● 濃縮水之電導(dǎo)度通常會(huì)介于20-100μS/cm 控制難易度 ● 原水流入濃縮水層后直接回收, 毋需使用循環(huán)泵浦 ● 配管極為簡(jiǎn)易, *有3支配管(進(jìn)水管, 產(chǎn)品水出水管及濃縮水出水管) ● 無循環(huán)泵浦控制電盤 ● 只需利用電源開關(guān)ON/OFF控制即可, 毋需使用PLC程控 ● 配管及控制簡(jiǎn)易, 大幅下降整體設(shè)置及維護(hù)成本 回收率 ● 濃縮水之水質(zhì)優(yōu)于原水許多(電導(dǎo)度通常介于20-100μS/cm) ● 可回收至RO前繼續(xù)使用 其它優(yōu)勢(shì) ● 不需注入鹽水循環(huán), 因此不會(huì)在陽極產(chǎn)生任何氯氣(Chlorine)破壞膜塊內(nèi)膜片 ● **膜塊電源控制, 單一膜塊需維護(hù)或故障時(shí)不影響其它膜塊組運(yùn)轉(zhuǎn) ● 另有高溫**膜塊可供選用 購(gòu)買請(qǐng)美國(guó)IONPURE EDI模塊咨詢上海純超環(huán)保。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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美國(guó)Ionpure EDI模塊工作主要有三個(gè)過程：

a.  淡水進(jìn)入淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

b.  被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

離子進(jìn)入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時(shí)候，其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。 廠家直供美國(guó)IONPURE EDI模塊

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