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EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用 自動(dòng)化壓花工藝 EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執(zhí)行 閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng) 外部浮雕和冷卻站 EVG ? 510 HE技術(shù)數(shù)據(jù)： 加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米 比較大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：?jiǎn)涡酒?00毫米 比較大接觸力：10、20、60 kN 比較高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C 夾盤(pán)系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ...

IQ Aligner UV-NIL特征： 用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用 用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用 三個(gè)**控制的Z軸，可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償 三個(gè)**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制 利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝 EVG專有的全自動(dòng)浮雕功能 抵抗分配站集成 粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能 IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型 曝光...

EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。 用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)?技術(shù)，在100毫米范圍內(nèi)。 EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動(dòng)批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNI...

EVG ? 620 NT特征： 頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力 高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) 自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列 電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持 多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶界面語(yǔ)言） 敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具 臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版 EVG ? 620 NT附加功能： 鍵對(duì)準(zhǔn) 紅外對(duì)準(zhǔn) SmartNIL μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸） 標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片 ...

EVG ? 620 NT特征： 頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力 高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) 自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列 電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持 多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶界面語(yǔ)言） 敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具 臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版 EVG ? 620 NT附加功能： 鍵對(duì)準(zhǔn) 紅外對(duì)準(zhǔn) SmartNIL μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸） 標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片 ...

其中包括家用電器、醫(yī)藥、電子、光學(xué)、生命科學(xué)、汽車(chē)和航空業(yè)。肖特在全球34個(gè)國(guó)家和地區(qū)設(shè)有生產(chǎn)基地和銷(xiāo)售辦事處。公司目前擁有員工超過(guò)15500名，2017/2018財(cái)年的銷(xiāo)售額為。總部位于德國(guó)美因茨的母公司SCHOTTAG由卡爾蔡司基金會(huì)（CarlZeissFoundation）全資擁有。卡爾蔡司基金會(huì)是德國(guó)歷史**悠久的私立基金會(huì)之一，同時(shí)也是德國(guó)規(guī)模比較大的科學(xué)促進(jìn)基金會(huì)之一。作為一家基金公司，肖特對(duì)其員工，社會(huì)和環(huán)境負(fù)有特殊責(zé)任。關(guān)于EV集團(tuán)（EVG）EV集團(tuán)（EVG）是為半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、化合物半導(dǎo)體、功率器件和納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的**供應(yīng)商。其...

UV納米壓印光刻系統(tǒng) EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) ■高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) ■自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制 ■電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 ■支持***的UV-LED技術(shù) ■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA：自動(dòng)化的全場(chǎng)納米壓印解決方案，適用于第3代基材 ■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度 ■專有的SmartNIL?技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù) ■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作 ■盒帶間自動(dòng)處理以及...

首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層，然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上，與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過(guò)“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開(kāi)母板后，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性，剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。因此，利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板，經(jīng)過(guò)表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志...

EVG ? 720自動(dòng)SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng) 自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米，設(shè)有EVG's專有SmartNIL ?技術(shù) EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識(shí)，能夠大規(guī)模制造微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結(jié)構(gòu)，具有****的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件，例如衍射光學(xué)元件（ DOEs）。 *分辨率取決于過(guò)程和模板 如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問(wèn)官網(wǎng)，獲得更多信息。...

SmartNIL是一項(xiàng)關(guān)鍵的啟用技術(shù)，可用于顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。例如，SmartNIL提供了****的全區(qū)域共形壓印，以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標(biāo)準(zhǔn)。SmartNIL還非常適合對(duì)具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)的微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化，以支持下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備的生產(chǎn)。此外，SmartNIL的***發(fā)展為制造具有比較高功能，**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度，這對(duì)于實(shí)現(xiàn)衍射光學(xué)元件（DOE）至關(guān)重要。 特征： 體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度 專有SmartNIL ?技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù) 經(jīng)過(guò)生產(chǎn)...

EVG ? 620 NT特征： 頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力 高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) 自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列 電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持 多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶界面語(yǔ)言） 敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具 臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版 EVG ? 620 NT附加功能： 鍵對(duì)準(zhǔn) 紅外對(duì)準(zhǔn) SmartNIL μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸） 標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片 ...

EV集團(tuán)和肖特?cái)y手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開(kāi)展，這是一個(gè)開(kāi)放式的光刻/納米壓印（NIL）技術(shù)創(chuàng)新孵化器，同時(shí)也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)晶圓鍵合與光刻設(shè)備**供應(yīng)商EV集團(tuán)（EVG）***宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的**技術(shù)集團(tuán)肖特?cái)y手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓印（NIL）技術(shù)在下一代增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)（AR/MR）頭戴顯示設(shè)備的波導(dǎo)/...

關(guān)于WaveOptics WaveOptics是衍射波導(dǎo)的全球**設(shè)計(jì)商和制造商，衍射波導(dǎo)是可穿戴AR設(shè)備中的關(guān)鍵光學(xué)組件。 諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設(shè)備使用戶能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實(shí)世界之上的數(shù)字圖像。有兩個(gè)關(guān)鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。 WaveOptics的波導(dǎo)技術(shù)可傳輸來(lái)自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術(shù)可產(chǎn)生大的眼框，雙目觀察和高視野。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請(qǐng)參見(jiàn)下圖。WaveOptics的波導(dǎo)提供清晰，無(wú)失真的...

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。 *分辨率取決于過(guò)程和模板 如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。三維芯片納米壓印質(zhì)量怎...

UV納米壓印光刻 EV Group提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線，包括不同的***積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)，微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù)。高 效，強(qiáng)大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNI技術(shù)達(dá)到了納米壓印的長(zhǎng)期預(yù)期，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的高性能，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。 EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠...

NIL300mmEV集團(tuán)企業(yè)技術(shù)開(kāi)發(fā)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)總監(jiān)MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，為光刻/納米壓印技術(shù)供應(yīng)鏈中的各個(gè)合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個(gè)開(kāi)放式的創(chuàng)新孵化器，從而縮短創(chuàng)新光子器件和應(yīng)用的開(kāi)發(fā)周期和上市時(shí)間。我們很高興與肖特公司合作，證明EVG光刻/納米壓印技術(shù)解決方案的價(jià)值，不僅有助于新技術(shù)和新工藝的開(kāi)發(fā)，還能夠加速新技術(shù)和新工藝在大眾市場(chǎng)中的采用。我們正在攜手肖特開(kāi)展的工作，彰顯了光刻/納米壓印技術(shù)設(shè)備和工藝的成熟性，為各種令人興奮的基于光子學(xué)的新產(chǎn)品和新應(yīng)用的300-mm制造奠定了基礎(chǔ)。”SCHOTTR...

IQ Aligner UV-NIL 自動(dòng)化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng) 應(yīng)用：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng) IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開(kāi)始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng)。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識(shí)。EV Group專有的卡盤(pán)設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋...

NIL300mmEV集團(tuán)企業(yè)技術(shù)開(kāi)發(fā)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)總監(jiān)MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，為光刻/納米壓印技術(shù)供應(yīng)鏈中的各個(gè)合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個(gè)開(kāi)放式的創(chuàng)新孵化器，從而縮短創(chuàng)新光子器件和應(yīng)用的開(kāi)發(fā)周期和上市時(shí)間。我們很高興與肖特公司合作，證明EVG光刻/納米壓印技術(shù)解決方案的價(jià)值，不僅有助于新技術(shù)和新工藝的開(kāi)發(fā)，還能夠加速新技術(shù)和新工藝在大眾市場(chǎng)中的采用。我們正在攜手肖特開(kāi)展的工作，彰顯了光刻/納米壓印技術(shù)設(shè)備和工藝的成熟性，為各種令人興奮的基于光子學(xué)的新產(chǎn)品和新應(yīng)用的300-mm制造奠定了基礎(chǔ)。”SCHOTTR...

HERCULES ? NIL特征： 全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區(qū)域烙印覆蓋 批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu) 支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D 適用于高地形（粗糙）表面 *分辨率取決于過(guò)程和模板 HERCULES ? NIL技術(shù)數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ...

IQ Aligner?：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng) ■用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用 ■用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用 ■三個(gè)**控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV），并在壓模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償 ■粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能 紫外線壓印_紫外線固化 印章 防紫外線基材 附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記 用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過(guò)UV光交聯(lián)。 μ-接觸印刷 軟印章 基板上的材料 領(lǐng)取物料，物料轉(zhuǎn)移，刪除印章 EV...

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。 *分辨率取決于過(guò)程和模板 如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。中芯國(guó)際納米壓印出廠...

EVG ? 520 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用 自動(dòng)化壓花工藝 EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印 氣動(dòng)壓花選項(xiàng) 軟件控制的流程執(zhí)行 EVG ? 520 HE技術(shù)數(shù)據(jù) 加熱器尺寸：150毫米，200毫米 比較大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：?jiǎn)涡酒?00毫米 比較大接觸力：10、20、60、100 kN 比較高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C 粘合卡盤(pán)系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ? 620，EVG...

納米壓印設(shè)備哪個(gè)好？預(yù)墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術(shù)用于表面化學(xué)的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。 納米壓印設(shè)備可以進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。 將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，從而將材料轉(zhuǎn)變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。 岱美儀器代理的SmartNIL是一項(xiàng)關(guān)鍵的啟用技術(shù)，可用于顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。3D IC納米壓印美元價(jià) SmartNIL...

通過(guò)中心提供的試驗(yàn)生產(chǎn)線基礎(chǔ)設(shè)施，WaveOptics將超越其客戶對(duì)下個(gè)季度的預(yù)期需求，并有一條可靠的途徑將大批量生產(chǎn)工藝和設(shè)備轉(zhuǎn)移至能夠大規(guī)模生產(chǎn)波導(dǎo)的指定設(shè)施適用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實(shí)現(xiàn)的價(jià)格提供高性能，商用波導(dǎo)來(lái)幫助客戶將AR顯示器推向市場(chǎng)的承諾。利用EVG在批量生產(chǎn)設(shè)備和工藝技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)，到2019年，AR終端用戶產(chǎn)品將以不到600美元的價(jià)格進(jìn)入市場(chǎng)，這是當(dāng)今行業(yè)中的*低價(jià)位。 SmartNIL的主要技術(shù)是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。微透鏡納米壓印微流控應(yīng)用 ...

該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據(jù)客戶的專門(mén)需求，公司對(duì)這些聚合物作出調(diào)整，使其具備其它特征。它們極其適合工業(yè)環(huán)境，在較短的生產(chǎn)周期時(shí)間內(nèi)粘合各種微小的元件。此外，DELO紫外線LED固化設(shè)備與點(diǎn)膠閥的可靠度十分杰出。關(guān)于德路德路(DELO)是世界前列的工業(yè)粘合劑制造商，總部位于德國(guó)慕尼黑附近的Windach。在美國(guó)、中國(guó)、新加坡及日本均設(shè)有子公司。2019財(cái)政年，公司的780名員工創(chuàng)造了。該公司產(chǎn)品在全球范圍內(nèi)廣泛應(yīng)用于汽車(chē)、消費(fèi)類電子產(chǎn)品與工業(yè)電子產(chǎn)品。幾乎每一部智能手機(jī)與超過(guò)一半的汽車(chē)上都使用該公司產(chǎn)品。DELO的客戶包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門(mén)子以及索尼等...

EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV納米壓印光刻系統(tǒng)。 用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)?技術(shù)范圍達(dá)150m。這些系統(tǒng)以其自動(dòng)化的靈活性和可靠性而著稱，以**小的占地面積提供了** 新的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，**短的掩模和工具更換時(shí)間以及高 效的全球服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動(dòng)批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的Sm...

”EV集團(tuán)的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說(shuō)，“通過(guò)與供應(yīng)鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作，例如DELO，我們能夠進(jìn)一步提高效率，作為與工藝和設(shè)備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心。”“EVG和DELO分別是晶圓級(jí)光學(xué)儀器與NIL設(shè)備與光學(xué)材料的技術(shù)與市場(chǎng)**企業(yè)。雙方在將技術(shù)與工藝流程應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗(yàn),”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說(shuō)道。“通過(guò)合作，我們將提供自己獨(dú)特的技術(shù)，將晶圓級(jí)工藝技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)器件和光電器件制造中，EVG也成為我們***產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應(yīng)用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務(wù)。"晶圓...

EVG ? 510 HE熱壓印系統(tǒng) 應(yīng)用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn) EVG510 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng)，提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。 EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用 自動(dòng)化壓花工藝 EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執(zhí)行 閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng) 外部浮雕和冷卻站 EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)...

為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項(xiàng)特殊功能，該工具可以升級(jí)為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制。 通過(guò)為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強(qiáng)了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。 *根據(jù)ISO 14644 HERCULES ? NIL特征： 批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu) 聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ? 體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的...

EVG公司技術(shù)開(kāi)發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補(bǔ)充說(shuō)：“我們開(kāi)發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對(duì)*復(fù)雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù)，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護(hù)客戶IP的強(qiáng)大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴(kuò)展的解決方案。” EVG的NILPhotonics?能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開(kāi)發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費(fèi)者等所有主要市場(chǎng)領(lǐng)...