UV-LED光源作為一種新興光源，近幾年技術獲得了極大的進步，在光刻機上同樣作為光源使用。與傳統(tǒng)汞燈相比，具有光強更高、穩(wěn)定性更好的特點，可節(jié)省電能約50%，壽命延長5倍～10倍。一支汞燈的使用壽命通常在800～1000h，在進行工業(yè)生產(chǎn)中，通常24h保持工作狀態(tài)，能耗極大，隨著持續(xù)使用光強快速衰減，需要根據(jù)工藝需求不斷對汞燈位置進行校正，調(diào)節(jié)光強大小以滿足曝光時光強求。UV-LED光源采用電子快門技術，曝光結(jié)束后LED自動關閉，間斷性的使用極大地延長了LED的使用時間，曝光光強可以通過調(diào)節(jié)燈珠功率實現(xiàn)，操作簡單方便。套刻精度(OverlayAccuracy)的基本含義是指前后兩道光刻工序之間兩者圖形的對準精度，如果對準的偏差過大，就會直接影響產(chǎn)品的良率。一般光刻機廠商會提供每臺設備的極限套刻精度。套刻精度作為是光刻機的另一個非常重要的技術指標，不同光刻機會采用不同的對準系統(tǒng)，與此同時每層圖形的對準標記也有所不同。
自適應光刻技術可根據(jù)不同需求調(diào)整參數(shù)。安徽材料刻蝕版廠家

光刻對準技術是曝光前一個重要步驟作為光刻的三大主要技術之一，一般要求對準精度為細線寬尺寸的1/7---1/10。隨著光刻分辨力的提高，對準精度要求也越來越高，例如針對45am線寬尺寸，對準精度要求在5am左右。受光刻分辨力提高的推動，對準技術也經(jīng)歷迅速而多樣的發(fā)展。從對準原理上及標記結(jié)構分類，對準技術從早期的投影光刻中的幾何成像對準方式，包括視頻圖像對準、雙目顯微鏡對準等，一直到后來的波帶片對準方式、干涉強度對準、激光外差干涉以及莫爾條紋對準方式。江蘇材料刻蝕加工廠光刻套刻的對準與誤差。

視頻圖像處理對準技術，是指在光刻套刻的過程中，掩模圖樣與硅片基板之間基本上只存在相對旋轉(zhuǎn)和平移，充分利用這一有利條件，結(jié)合機器視覺映射技術，利用相機采集掩模圖樣與硅片基板的對位標記信號。此種方法看上去雖然與雙目顯微鏡對準有些類似，但是實質(zhì)其實有所不同。場像處理對準技術是通過CCDS攝像對兩個對位標記圖像進行采集、濾波、特征提取等處理，通過圖像處理單元進行精確定位和匹配參數(shù)計算，求得掩模圖樣與硅片基板之間的相對旋轉(zhuǎn)和平移量，然后進行相位補償和平移量補償，自動完成對準的過程。其光源一般是寬帶的鹵素燈，波長在550~800nm。相對于其他的對準方式其具有對準精度高、結(jié)構簡單、可操作性強、效率高的優(yōu)勢。其對準精度誤差主要來自于圖像處理過程。因此，選擇合適的圖像處理算法顯得尤為重要。

從對準信號上分，主要包括標記的顯微圖像對準、基于光強信息的對準和基于相位信息對準。對準法則是光刻只是把掩膜版上的Y軸與晶園上的平邊成90o，如圖所示。接下來的掩膜版都用對準標記與上一層帶有圖形的掩膜對準。對準標記是一個特殊的圖形，分布在每個芯片圖形的邊緣。經(jīng)過光刻工藝對準標記就永遠留在芯片表面，同時作為下一次對準使用。對準方法包括：a、預對準，通過硅片上的notch或者flat進行激光自動對準b、通過對準標志，位于切割槽上。另外層間對準，即套刻精度,保證圖形與硅片上已經(jīng)存在的圖形之間的對準。光刻技術的發(fā)展需跨領域合作，融合多學科知識。

隨著光刻對準技術的發(fā)展，一開始只是作為評價及測試光柵質(zhì)量的莫爾條紋技術在光刻對準中的應用也得到了更深層的開發(fā)。起初，其只能實現(xiàn)較低精度的人工對準，但隨著細光柵衍射理論的發(fā)展，利用莫爾條紋相關特性漸漸也可以在諸如納米壓印光刻對準等高精度對準領域得到應用。莫爾條紋是兩條光柵或其他兩個物體之間，當它們以一定的角度和頻率運動時，會產(chǎn)生干涉條紋圖案。當人眼無法看到實際物體而只能看到干涉花紋時，這種光學現(xiàn)象就是莫爾條紋。L.Rayleigh對這個現(xiàn)象做出了解釋，兩個重疊的平行光柵會生成一系列與光柵質(zhì)量有關的低頻條紋，他的理論指出當兩個周期相等的光柵柵線以一定夾角平行放置時，就會產(chǎn)生莫爾條紋，而周期不相等的兩個光柵柵線夾角為零（柵線也保持平行）平行放置時，也會產(chǎn)生相對于光柵周期放大的條紋。光刻膠的選擇直接影響芯片的性能和良率。安徽材料刻蝕版廠家

3D光刻技術為半導體封裝開辟了新路徑。安徽材料刻蝕版廠家

對于透明基片的雙面光刻加工，其準標記可靈活設計，沿目鏡的光軸上方的圖案區(qū)域如果是不透光的，該區(qū)域的對準標記可以簡單設計成透光十字或透光方框作為對準標記。如果目鏡光軸上方掩模板圖案區(qū)域是透光的，該區(qū)域設計的對準標記可以設計成十字型或方框。不管是十字型還是方框型，都是參照內(nèi)部的邊和角進行精確對準。綜合考慮到物距不一成像大小不同的因素，兩塊掩模板的對準標記也可以設計成大小不一的，以掩模板和基片標記成像方便觀測對準為原則。雙面光刻調(diào)制盤作為光路一部分用于約束光束，加工完成后，要用不透明的涂料涂覆標記圖案及搜索線即可，即便沒有搜索線，由于小方框?qū)蕵擞浭峭腹獾模膊幻庖猛苛贤扛?，涂料對于測量狹縫和機械裝配公差配合沒有影響。安徽材料刻蝕版廠家