EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統。
用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統®技術，在100毫米范圍內。
EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發環境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。
納米壓印設備哪個好？預墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。重慶納米壓印出廠價
關于WaveOptics
WaveOptics是衍射波導的全球**設計商和制造商，衍射波導是可穿戴AR設備中的關鍵光學組件。
諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設備使用戶能夠觀看覆蓋在現實世界之上的數字圖像。有兩個關鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。
WaveOptics的波導技術可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術可產生大的眼框，雙目觀察和高視野。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導提供清晰，無失真的文本以及穩定的圖像。
WaveOptics技術旨在用于工業，企業和消費者市場的沉浸式AR體驗。該公司的目標是，憑借其獨特的技術和專業知識，其波導將成為所有AR可穿戴設備中使用的he心光學組件，以實現****的制造可擴展性和視覺性能，并為眾多應用提供多功能性。 IQAligner納米壓印應用EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統。
EVG ® 7200 LA特征：
專有SmartNIL ®技術，提供了****的印跡形大面積
經過驗證的技術，具有出色的復制保真度和均勻性
多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本
強大且精確可控的處理
與所有市售的壓印材料兼容
EVG ® 7200 LA技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米）
解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2）
對準：可選的光學對準：≤±15 μm
自動分離：支持的
迷你環境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EVG ® 720特征：
體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度
專有SmartNIL ®技術，多使用聚合物印模技術
集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造
盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式
可選的頂部對準
可選的迷你環境
適用于所有市售壓印材料的開放平臺
從研發到生產的可擴展性
系統外殼，可實現比較好過程穩定性和可靠性技術數據
晶圓直徑（基板尺寸）
75至150毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對準：可選的頂部對準
自動分離：支持的
迷你環境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本的技術，大批量替代光刻技術。
面板廠為補償較低的開口率，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程，可確保適當的開口率，降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經過數十次的曝光制程。不僅制程時間長，經過多次曝光后，在圖樣間會形成細微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質量的生產制程，是LCD領域中***一個創新任務。若加速NIL制程導入LCD生產的時程，偏光膜企業的營收可能減少。（來自網絡。EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統。CMOS納米壓印研發生產
岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。重慶納米壓印出廠價
EVG610特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG610附加功能：
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EVG610技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：比較大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
自動分離：不支持
工作印章制作：外部
重慶納米壓印出廠價
岱美儀器技術服務（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿易試驗區加太路39號第五層六十五部位，是一家磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】的公司。岱美儀器技術服務作為磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】的企業之一，為客戶提供良好的磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發。岱美儀器技術服務始終以本分踏實的精神和必勝的信念，影響并帶動團隊取得成功。岱美儀器技術服務始終關注自身，在風云變化的時代，對自身的建設毫不懈怠，高度的專注與執著使岱美儀器技術服務在行業的從容而自信。