客戶示范

■工藝開發

■材料測試

■與合作伙伴共同研發

■資助項目

■小批量試生產

■IP管理

■過程技術許可證

■流程培訓

→世界前列的潔凈室基礎設施

→**的設備

→技術**

→**計量

→工藝知識

→應用知識

→與NIL的工作印模材料和表面化學有關的化學專業知識

新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。

岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。

EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。中芯國際納米壓印用途

HERCULES ® NIL特征：

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區域烙印覆蓋

批量生產**小40 nm或更小的結構

支持各種結構尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

HERCULES ® NIL技術數據：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準：≤±3微米

自動分離：支持的

前處理：提供所有預處理模塊

迷你環境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

三維芯片納米壓印用途是什么EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。

    該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據客戶的專門需求，公司對這些聚合物作出調整，使其具備其它特征。它們極其適合工業環境，在較短的生產周期時間內粘合各種微小的元件。此外，DELO紫外線LED固化設備與點膠閥的可靠度十分杰出。關于德路德路(DELO)是世界前列的工業粘合劑制造商，總部位于德國慕尼黑附近的Windach。在美國、中國、新加坡及日本均設有子公司。2019財政年，公司的780名員工創造了。該公司產品在全球范圍內廣泛應用于汽車、消費類電子產品與工業電子產品。幾乎每一部智能手機與超過一半的汽車上都使用該公司產品。DELO的客戶包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門子以及索尼等。關于EVGroup(EVG)EV集團(EVG)是為生產半導體、微機電系統(MEMS)、化合物半導體、功率器件以及納米技術器件制造提供設備與工藝解決方案的**供應商。該公司主要產品包括晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術（NIL）與計量設備，，以及涂膠機、清洗機與檢測系統。EV集團創辦于1980年，可為遍及全球的眾多客戶與合作伙伴提供各類服務與支持。

EVG ® 720特征：

體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術，多使用聚合物印模技術

集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式

可選的頂部對準

可選的迷你環境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發到生產的可擴展性

系統外殼，可實現比較好過程穩定性和可靠性技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）

75至150毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準：可選的頂部對準

自動分離：支持的

迷你環境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EVG紫外光納米壓印系統有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。

EVGROUP®|產品/納米壓印光刻解決方案

納米壓印光刻的介紹：

EV Group是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規光刻技術多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究，開發和現場經驗進行了優化，以解決常規光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結果。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。

**小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度，這對于實現衍射光學元件（DOE）至關重要。EVG510 HE納米壓印推薦型號

EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。中芯國際納米壓印用途

    具體說來就是，MOSFET能夠有效地產生電流流動，因為標準的半導體制造技術旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時會泄到別的不需要的地方，那樣就創造出了所謂的“短溝道效應”區域，并導致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學、德克薩斯大學、以及加州大學伯克利分校等），開發出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質的新技術。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形，從而帶來更加“物理可控”的生產過程。（來自網絡。中芯國際納米壓印用途

岱美儀器技術服務（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型的公司。岱美儀器技術服務致力于為客戶提供良好的磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠信為本的經營理念，在儀器儀表深耕多年，以技術為先導，以自主產品為重點，發揮人才優勢，打造儀器儀表良好品牌。在社會各界的鼎力支持下，持續創新，不斷鑄造***服務體驗，為客戶成功提供堅實有力的支持。