MEMS發展的目標在于，通過微型化、集成化來探索新原理、新功能的元件和系統，開辟一個新技術領域和產業。MEMS可以完成大尺寸機電系統所不能完成的任務，也可嵌入大尺寸系統中，把自動化、智能化和可靠性水平提高到一個新的水平。21世紀MEMS將逐步從實驗室走向實用化，對工農業、信息、環境、生物工程、醫療、空間技術和科學發展產生重大影響。MEMS(微機電系統)大量用于汽車安全氣囊，而后以MEMS傳感器的形式被大量應用在汽車的各個領域，隨著MEMS技術的進一步發展，以及應用終端“輕、薄、短、小”的特點，對小體積高性能的MEMS產品需求增勢迅猛，消費電子、醫療等領域也大量出現了MEMS產品的身影。MEMS的超透鏡是什么？新疆本地MEMS微納米加工

MEMS制作工藝-光學超表面meta-surface：超表面是指一種厚度小于波長的人工層狀材料。超表面可實現對電磁波偏振、振幅、相位、極化方式、傳播模式等特性的靈活有效調控。超表面可視為超材料的二維對應。

根據面內的結構形式，超表面可以分為兩種：一種具有橫向亞波長的微細結構，一種為均勻膜層。

根據調控的波的種類，超表面可分為光學超表面、聲學超表面、機械超表面等。光學超表面 是最常見的一種類型，它可以通過亞波長的微結構來調控電磁波的偏振、相位、振幅、頻率等特性，是一種結合了光學與納米科技的新興技術。

其超表面的制作方式，一般會用到電子束光刻技術EBL，通過納米級的直寫，將圖形曝光到各種襯底上，然后經過鍍膜或刻蝕形成具有一定相位調控的超表面器件。 江蘇采用微納米加工的MEMS微納米加工MEMS超表面對光電場特性的調控是怎樣的？

MEMS制作工藝ICP深硅刻蝕：在半導體制程中，單晶硅與多晶硅的刻蝕通常包括濕法刻蝕和干法刻蝕兩種方法各有優劣，各有特點。濕法刻蝕即利用特定的溶液與薄膜間所進行的化學反應來去除薄膜未被光刻膠掩膜覆蓋的部分，而達到刻蝕的目的。因為濕法刻蝕是利用化學反應來進行薄膜的去除，而化學反應本身不具方向性，因此濕法刻蝕過程為等向性。濕法刻蝕過程可分為三個步驟:1)化學刻蝕液擴散至待刻蝕材料之表面;2)刻蝕液與待刻蝕材料發生化學反應;3)反應后之產物從刻蝕材料之表面擴散至溶液中，并隨溶液排出。

濕法刻蝕之所以在微電子制作過程中被采用乃由于其具有低成本、高可靠性、高產能及優越的刻蝕選擇比等優點。但相對于干法刻蝕，除了無法定義較細的線寬外，濕法刻蝕仍有以下的缺點:1) 需花費較高成本的反應溶液及去離子水:2) 化學藥品處理時人員所遭遇的安全問題:3) 光刻膠掩膜附著性問題;4) 氣泡形成及化學腐蝕液無法完全與晶片表面接觸所造成的不完全及不均勻的刻蝕

MEMS制作工藝深硅刻蝕即ICP刻蝕工藝：硅等離子體刻蝕工藝的基本原理干法刻蝕是利用射頻電源使反應氣體生成反應活性高的離子和電子，對硅片進行物理轟擊及化學反應，以選擇性的去除我們需要去除的區域。被刻蝕的物質變成揮發性的氣體，經抽氣系統抽離，然后按照設計圖形要求刻蝕出我們需要實現的深度。干法刻蝕可以實現各向異性，垂直方向的刻蝕速率遠大于側向的。其原理如圖所示，生成CF基的聚合物以進行側壁掩護，以實現各向異性刻蝕刻蝕過程一般來說包含物理濺射性刻蝕和化學反應性刻蝕。對于物理濺射性刻蝕就是利用輝光放電，將氣體解離成帶正電的離子，再利用偏壓將離子加速，濺擊在被蝕刻物的表面，而將被蝕刻物質原子擊出(各向異性)。對于化學反應性刻蝕則是產生化學活性極強的原(分)子團，此原(分)子團擴散至待刻蝕物質的表面，并與待刻蝕物質反應產生揮發性的反應生成物(各向同性)，并被真空設備抽離反應腔超透鏡的電子束直寫和刻蝕工藝其實并不復雜。

駕駛輔助系統升級帶動MEMS＆傳感器價值提升。自動駕駛已成大趨勢，環境信息的感知是實現自動駕駛的基礎，越高級別的自動駕駛對信息感知能力的需求越高，對應的MEMS＆傳感器用量和價值量也會相應提升。根據NXP和Strategy analysis的數據，L1/2級別的自動駕駛只需要1個攝像頭模組、1-3個超聲波雷達和激光雷達，以及0-1個融合傳感器，新增半導體價值在100-350美元，而至L4/5級別自動駕駛車輛將會引入7-13個超聲波雷達和激光雷達、6-8個攝像頭模組并會引入V2X模塊以及多傳感器融合方案，新增半導體價值在1000美元以上。另外，短期來看，現實條件暴露了ADAS的缺陷，導致了一些安全事故的發生，由此對ADAS系統的安全性需求猛增，這些缺點重新致力于改進LIDAR、RADAR和其他成像設備，將多面傳感器系統集成到自動駕駛汽車中。MEMS微流控芯片是什么？重慶MEMS微納米加工之超表面制作

MEMS后發追趕，國產替代空間廣闊。新疆本地MEMS微納米加工

MEMS超表面對光電特性的調控：

1.超表面meta-surface對相位的調控：相位是電磁波的一個重要屬性，等相位面決定了電磁波的傳播方向，一副圖像的相位則包含了其立體信息。通過控制電磁波的相位，可以實現光束偏轉、超透鏡、超全息、渦旋光產生、編碼、隱身、幻像等功能。

2.超表面meta-surface對電磁波多個自由度的聯合調控：超表面可以實現對電磁波相位、振幅、偏振等自由度的同時調控。比如，通過對電磁波的相位和振幅的聯合調控，可以實現立體超全息，通過對電磁波的相位和偏振的聯合調控，可以實現矢量渦旋光；通過對電磁波的相位和頻率的聯合調控，可以實現非線性超透鏡等功能。

3.超表面meta-surface對波導模式的調控：可將“超構光學”的概念與各類光波導平臺相結合，將超構表面或超構材料集成在各類光波導結構上，則可以在亞波長尺度下對波導中的光信號進行靈活自由的調控。利用上表面集成了超構表面的介質光波導結構，可以實現多功能的光耦合、光探測、偏振/波長解復用、結構光激發、波導模式轉化、片上光信號變換、光學神經網絡、光路由等應用 。 新疆本地MEMS微納米加工