平場消色差物鏡現今新型顯微鏡已經普遍使用平場消色差物鏡，甚至還可以配置更高級的平場復消色差物鏡.老式物鏡初次放大實象的直徑只有18mm～20mm，而平場消色差物鏡則規定高度校正的初次放大平面象的直徑為28mm，即象場面積增大了一倍，并使象場彎曲得到了很好的校正.高倍干物鏡為了便于觀察高倍顯微組織，現今顯微鏡一般均備有高倍干物鏡.例如nikon公司生產的EPIPHOT300型金相顯微鏡（圖1）配置有放大100×、150×、200×的CFPlanApoEPI型干物鏡，其NA值均為0.95.盡管干物鏡的分辨率明顯低于油浸物鏡（100×油浸物鏡的NA值一般可達1.40），但由于簡化了操作并使試樣免于被油污染，已獲得更為***的使用。更換鹵素燈時要注意高溫，以免灼傷；注意不要用手直接接觸鹵素燈的玻璃體。如皋重型金相顯微鏡規格尺寸

金相樣品按所需的分析方法制備后即可進行分析觀察,常用的分析方法見圖5 ，可分為常規分析方法和特殊分析方法。常規分析方法由于樣品制備簡單，顯微鏡不需特殊的附件，操作簡便，是觀察和研究金屬微觀組織形貌的**常用方法；直接使用垂直反射光的振幅及波長信息，樣品經磨平、拋光、腐刻后即可置于顯微鏡下觀察分析，按照明方式有直射（即明場）和斜射（即暗場）兩種。明場照明光線直射到樣品上觀察,出由于樣品表面上不同晶粒或不同相之間化學性質的差異，在同一腐蝕介質中發生不均勻的溶解，造成反射本領的差別而顯示組織組成物。南通重型金相顯微鏡售價將顯微鏡的燈泡插在低壓變壓器上（6～8V），再將變壓器插頭插在220V的電源插座上，使燈泡發亮。

金屬顯微組織檢驗又稱金相檢驗，是通過光學金相顯微鏡或電子顯微鏡觀察分析金屬材料微觀組織的檢測方法，相關操作遵循GB/T 13298-2015標準 [1]。該方法涵蓋晶粒度測定等項目，其中晶粒度評定采用腐蝕法與標準圖譜對比 [3]。檢驗中需根據材質選用硝酸酒精溶液 [4]、Murakami試劑進行浸蝕，特殊組織處理可采用電解拋光 [2]。應用領域包括焊接檢驗、鑄鐵檢驗、熱處理質量評定及鈦合金缺陷鑒別 [5]。硬質合金檢驗需使用≥1500倍顯微鏡，試樣制備含冷/熱鑲樣、逐級精磨及多步驟拋光流程 [2]

暗場圖6 光學金相顯微術采用了從物鏡外斜射照明，使樣品的鏡面呈現暗的視野，使表面上的 微小浮凸的反射光產生足夠大的對比而被顯示出來。如浮凸顆粒是透明或半透明的，經內界面漫反射的光亦將進入物鏡。這對金屬和合金材料中的微缺陷和非金屬夾雜物的鑒定分析是很有用的。例如圖6表示利用奧氏體晶界腐刻后在內界面處形成溝壕使光產生漫反射，從而勾畫出晶粒的形狀。特殊分析方法光學金相顯微鏡除利用垂直反射光的振幅信息反射成像外；還可利用在特殊照明條件下產生的不同的光學信息來顯示樣品中的組織組成物，它們的發展為光學金相顯微術增添了一系列的特殊分析方法（圖3）。模塊化設計：系統組件采用模塊化設計，便于用戶根據實際需求進行選擇和配置。

腐刻圖4 光學金相顯微術大多數經拋光的試樣是不能看到組織的。因為光在樣品表面上均勻反射，各不 同組織的反射率差別很小，不能被肉眼察覺。因而需要采用以下腐刻方法加大各相之間的襯度。①化學及電化學方法:化學腐刻（4%-8%硝酸酒精、苦味酸氫氧化鈉溶液、鐵**鉀等）電解腐刻（包括恒電位腐刻），陽極腐刻及氧化（熱染）等；②物理方法：真空顯示（選擇性蒸發），離子束濺射，干涉層等。目前，***使用的化學腐刻劑，大多數都是基于經驗；近年來已發展出如恒電位電解腐刻、離子束腐刻和干涉層金相技術等方法，可較好地控制條件，保證實驗的重復性。后者利用鍍層的干涉效應，能真實地反映組織形貌。貼近用戶的靈活性，設備的部件升級無需專業人員，用戶可自行操作完成。海安購買金相顯微鏡規格尺寸

同時，維護流程也相對簡單快捷，降低了用戶的維護成本和難度。如皋重型金相顯微鏡規格尺寸

目鏡偏差檢具：十字分劃板。檢測方法：在顯微鏡上用10倍物鏡和被檢十字分劃目鏡對置于載物臺上的十字分劃板調焦清晰，并使十字分劃板中心的像與十字分劃板目鏡重合，然后旋轉十字分劃目鏡，以兩十字線中心的比較大偏移作為檢測值。技術要求：十字分劃目鏡的十字線中心應與目鏡升圓軸線重合，其偏差為0.01mm。顯像部分出現的問題比較嚴重。1、光學系統（1）視場模糊或視場一樣不清晰。（2）像發閃爍，反差不好。（3）轉換物鏡時不到同焦。（4）即使用高電壓，視場也難以鮮明。2 、粗、微調部（1）粗調控制鈕旋轉時發重。如皋重型金相顯微鏡規格尺寸

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