廣東華升納米科技股份有限公司2025-10-25

華升納米始終將技術創新視為企業發展的驅動力。在真空鍍膜機領域，公司不斷優化設備結構與工藝控制算法，率先實現了高離化磁控濺射（HiPIMS）和電弧結合的一體陰極技術，實現更高沉積速率與更致密的薄膜性能。此外，華升納米新款電弧設備通過自主研發的智能監控系統，可實時監測鍍膜參數，確保涂層均勻性與可重復性。公司還在涂層材料方面積極探索，如DLC類、TiAlN類及多層復合膜的創新應用，為不同行業提供定制化解決方案。這些技術突破不提升了設備的綜合性能，也讓華升納米在國內外鍍膜設備制造領域保持地位。

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