廣東華升納米科技股份有限公司2025-12-09

華升納米金屬表面處理實測表明，在相同M2高速鋼刀片上，離子鍍TiAlN膜層結合力達60-80N，而磁控濺射為40-50N，兩者相差約30％以上。原因在于離子鍍的金屬離子經電弧蒸發后能量高達50-150eV，可在界面形成10nm寬的混合注入層，實現“冶金+機械”雙咬合；磁控濺射粒子能量不足5eV，靠微粗糙機械錨定，膜基結合相對脆弱。華升納米金屬表面處理因此建議：重載斷續切削應優先選離子鍍，可承受更高沖擊；輕載高速精加工則可采用磁控濺射，兼顧成本與表面光潔度。通過調整偏壓、轟擊時間和過渡層，華升納米金屬表面處理可將離子鍍膜基結合力進一步提升至HF1級，而磁控濺射亦可通過Cr過渡層+等離子清洗達到HF2級，滿足不同刀具的可靠金屬表面處理需求，實現經濟高效的華升納米金屬表面處理批量生產。

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