EVG ® 7200 LA特征：
專有SmartNIL ®技術，提供了****的印跡形大面積
經過驗證的技術，具有出色的復制保真度和均勻性
多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本
強大且精確可控的處理
與所有市售的壓印材料兼容
EVG ® 7200 LA技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米）
解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2）
對準：可選的光學對準：≤±15 μm
自動分離：支持的
迷你環境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。奧地利納米壓印研發生產
納米壓印應用三：連續性UV納米壓印
EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
北京納米壓印芯片堆疊應用EVG的SmartNIL技術是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術。
EVG ® 520 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用
自動化壓花工藝
EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印
氣動壓花選項
軟件控制的流程執行
EVG ® 520 HE技術數據
加熱器尺寸：150毫米，200毫米
比較大基板尺寸：150毫米，200毫米
**小基板尺寸：單芯片，100毫米
比較大接觸力：10、20、60、100 kN
比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C
粘合卡盤系統/對準系統
150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200
200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT
真空：
標準：0.1毫巴
可選：0.00001 mbar
HERCULES ® NIL特征：
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區域烙印覆蓋
批量生產**小40 nm或更小的結構
支持各種結構尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過程和模板
HERCULES ® NIL技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對準：≤±3微米
自動分離：支持的
前處理：提供所有預處理模塊
迷你環境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產品線。
UV納米壓印光刻系統
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統
■高精度對準臺
■自動楔形誤差補償機制
■電動和程序控制的曝光間隙
■支持***的UV-LED技術
■**小化系統占地面積和設施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA：自動化的全場納米壓印解決方案，適用于第3代基材
■體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度
■專有的SmartNIL®技術和多用途聚合物印章技術
■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作
■盒帶間自動處理以及半自動研發模式
■適用于所有市售壓印材料的開放平臺
EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案，適用于第3代基材。北京半導體設備納米壓印
EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統。奧地利納米壓印研發生產
面板廠為補償較低的開口率，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程，可確保適當的開口率，降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經過數十次的曝光制程。不僅制程時間長，經過多次曝光后，在圖樣間會形成細微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質量的生產制程，是LCD領域中***一個創新任務。若加速NIL制程導入LCD生產的時程，偏光膜企業的營收可能減少。（來自網絡。奧地利納米壓印研發生產
岱美儀器技術服務（上海）有限公司是一家磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】的公司，致力于發展為創新務實、誠實可信的企業。岱美儀器技術服務深耕行業多年，始終以客戶的需求為向導，為客戶提供***的磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發。岱美儀器技術服務致力于把技術上的創新展現成對用戶產品上的貼心，為用戶帶來良好體驗。岱美儀器技術服務創始人陳玲玲，始終關注客戶，創新科技，竭誠為客戶提供良好的服務。